生成AI（人工知能）の急速な普及に伴い、データセンターの電力消費が深刻な問題となっている。こうした中、東京大学と大手電機メーカーの研究チームは、新たな冷却技術を開発し、従来比で最大40%の省エネを達成したと発表した。
新冷却技術の仕組み
新技術は、半導体チップを直接冷却する「液浸冷却」を改良したもの。従来の空冷方式に比べ、冷却効率が格段に高い。研究チームのリーダーである山田教授は「この技術により、データセンターの電力消費の約3割を占める冷却にかかる電力を大幅に削減できる」と説明する。
実証実験の結果
研究チームは、都内のデータセンターで実証実験を実施。その結果、冷却にかかる電力を従来比で40%削減することに成功した。また、サーバーの処理性能も向上し、AI学習の速度が約15%向上したという。
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商用化への道筋
研究チームは、2028年までの商用化を目指している。すでに複数のデータセンター事業者から問い合わせがあり、早期の実用化が期待されている。山田教授は「生成AIの普及が進む中、この技術が持続可能なAI社会の実現に貢献できる」と語った。
業界への影響
生成AIの計算需要は今後5年間で10倍以上になると予測されており、電力消費の増加が懸念されている。新技術の普及により、データセンターの電力消費問題の解決につながる可能性がある。また、二酸化炭素排出量の削減にも寄与すると期待されている。
