政府は、半導体産業の競争力強化と経済安全保障の観点から、国内での半導体生産拠点の整備を促進する新たな補助金制度を発表した。この制度は、2025年度から2029年度までの5年間で、総額3兆円規模の支援を行う計画である。
補助金の対象と条件
補助金の対象は、先端ロジック半導体やメモリ半導体の製造工場の新設・増設、および研究開発施設の整備など。特に、2ナノメートル以降の最先端プロセスに対応する工場が優先される。補助率は設備投資額の最大50%で、年間売上高が一定額以上の企業が対象となる。また、補助金の交付には、国内での継続的な生産と雇用創出、技術流出防止策の実施などが条件として課される。
経済産業省の担当者は「この制度により、半導体の安定供給を確保し、経済安全保障を強化する。また、国内の半導体関連産業の雇用や技術力向上にもつながる」と述べている。
背景と狙い
近年、半導体の供給網が地政学的リスクにさらされる中、各国が国内生産を強化する動きが加速している。米国ではCHIPS法に基づく補助金が、欧州でも同様の制度が導入されている。日本もこれに追随し、半導体産業の国内回帰を促進することで、先端技術の流出防止とサプライチェーンの強靭化を図る。
今回の補助金制度は、政府が2021年に策定した「半導体・デジタル産業戦略」の一環として位置づけられる。同戦略では、2030年までに国内半導体産業の売上高を現在の約5兆円から15兆円に引き上げる目標を掲げている。
業界の反応
半導体業界からは歓迎の声が上がる一方、課題も指摘されている。業界関係者は「補助金は有効だが、人材育成や税制優遇など総合的な支援が必要」とコメント。また、工場建設には数年かかるため、早急な効果は期待できないとの見方もある。
一方、台湾積体電路製造（TSMC）やサムスン電子など海外メーカーの日本進出も進んでおり、国内企業との連携や技術協力の可能性も模索されている。
今後の展望
政府は今後、補助金の詳細な要件や申請手続きを年内に公表する予定。また、関連法案の成立を目指す。この制度が日本の半導体産業の復活につながるか、注目される。
